一、儀器介紹：

德國斯派克新SPECTROMAXx直讀光譜儀有臺式和立式兩種可供客戶選擇。SPECTRO MAXx（LMX07）火花直讀光譜儀應(yīng)用非常廣泛，主要適用于冶金、鑄造、壓鑄、鋼鐵和有色金屬行業(yè)的爐前快速分析，石油化工工、汽車制造、航空骯天、機(jī)械制造、電子、實(shí)驗(yàn)室以及進(jìn)出廠材料檢測等金屬材料分析。SPECTRO MAXx直讀光譜儀用于測定金屬行業(yè)需要分析的化學(xué)元素 ，包括衡量碳（C）、磷（P）、硫（S），特別是能實(shí)現(xiàn)氮（N）元素和稀土元素的分析。具備完備的工作曲線校正模塊，同時(shí)可進(jìn)行十種不同基體分析的能力，如：Fe、Al、Cu、Ni、Co、Ti、Mg、Zn、Pb、Sn等。覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)具體需要分析相應(yīng)的元素成份。

SPECTRO MAXx（LMX07）火花直讀光譜儀廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。

二、儀器優(yōu)勢：

1、第二代CCD全譜光譜制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制；

2、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用；

3、升級多基體方便，無須變動增加硬件；

4、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)；

5、體積小、重量輕， 移動安裝方便；

6、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性；

7、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。

三、主要特點(diǎn)：

1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；

2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線，使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果；

3、光學(xué)系統(tǒng)采用非真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；

5、自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；

6、開放式的電極架設(shè)計(jì)，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

7、工作曲線采用標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；

8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；

9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性；

10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能；

11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；

13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實(shí)時(shí)監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況；

14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計(jì)算機(jī)升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性。

四、SPECTROMAXx參數(shù)指標(biāo)：

◆光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)：帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度：自動控制恒溫：35℃±0.5℃

波長范圍：160-800nm

光柵焦距：350 mm

光柵刻線：3600 l/mm

一級光譜線色散率：1.2 nm/mm

探測器：多塊高性能線陣CCD

平均分辨率：10pm/pixel

◆激發(fā)臺

氣體：沖氬式

氬氣流量：激發(fā)時(shí)3-5L/min， 待機(jī)時(shí)：無須待機(jī)流量

電極：鎢材噴射電極技術(shù)

吹掃：點(diǎn)擊自吹掃功能

補(bǔ)償：熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)

分析間隙：樣品臺分析間隙：4mm

◆激發(fā)光源

類型：HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

頻率：100-1000Hz

放電電流：1-80A

特殊技術(shù)：放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)

預(yù)燃：高能預(yù)燃技術(shù)

◆數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器：ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接口：以太數(shù)據(jù)傳輸

◆電源與環(huán)境要求

輸入：220VAC 50Hz

功率：分析時(shí)大700W，待機(jī)狀態(tài)40W

工作溫度：10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h）

工作濕度：20-80%